手艺特点
- 可选配光源:405nmLED、405nmLD、355nmDPSSL
- 支持4-8英寸幅面基板
- 高刷新空间光调制无掩模直写
- 自动聚焦
- 3D形貌曝光、干预曝光、偏振曝光
- 多模式曝光(扫描式曝光、步进式曝光)
- 多使命模式自动运行
- GDSII、BMP、STL等文件名堂支持
规格参数
* 参数取决于选配工件台幅面 * 详细指标因工艺差别有所差别
应用示例
数字化光刻
高端仪器装备
Microlab 科研型多功效直写光刻系统
* 参数取决于选配工件台幅面 * 详细指标因工艺差别有所差别