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光伏投影扫描光刻系统 HJT-lithography systems

手艺特点

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  • 针对异质结电池片铜栅线工艺的图形化需求,专门设计了一款投影扫描光刻系统,具有快速光刻、区分率好、大焦深的特点,接纳405nm光纤激光光源,很是适合在光伏专用感光油墨上举行曝光,实现高品质的槽型结构。设置了CCD识别基片纠偏系统,实现30μm瞄准精度。
  • 该投影扫描光刻模式,接纳较低本钱的通俗掩模版作为图形输入,且具有曝光匀称性与一致性好、工艺窗口大、对基片厚度误差顺应性高、便于与前后道装备组线的优点,是光伏图形化的理想解决计划。

 

规格参数

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* 详细指标因工艺差别有所差别

 

接纳抛光基片,负光刻胶的光刻效果

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接纳光伏镀铜基片,感光油墨的光刻效果

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