半导体CD（Critical Dimension）和OVL（Overlay）丈量装备是芯片制造历程中不可或缺的工具。CD丈量装备用于准确丈量半导体晶圆上细小特征的尺寸，确保它们切合设计规格。这关于维持芯片性能和良率至关主要。OVL丈量装备则用于评估差别制造办法中图案层之间的瞄准精度，包管各层图案能够准确重合，从而阻止电路功效失效。通过高精度的丈量，半导体CD和OVL装备资助工程师实时发明息争决生产中的问题，确保最终产品的质量和性能。
维普Vortex系列机台，接纳UV光学成像及反射、透射照明光源。搭配高精度的边沿探测算法，可实现亚像素级丈量精度。同时兼容Mask及晶圆的CD量测。
Vortex 2000
Vortex 2000是维普推出针对晶圆半自动光学要害尺寸及套刻丈量装备，基于高区分率的光学成像系统，支持透射、反射两种照明模式，可兼容Mask/Wafer的要害尺寸量测。搭配高性能的运动台，提高丈量历程中定位效率，镌汰稳态颤抖，以知足丈量重复性的苛刻要求。
应用场景
针对4、6、8、12寸晶圆、光罩Mask要害尺寸及套刻精度丈量。
要害特征
- 可同时兼容最大12寸晶圆及Mask的CD量测
- 支持UV、白光照明及光学系统
- 支持透射光（用于Mask）、反射光量测
- 光学系统基于Recipe的自动丈量
- 支持灰度阈值、灰度转变率、直线拟合等多种线宽丈量要领
- 多持非线性赔偿功效
- 支持低比照度下的线宽丈量
- 支持通过GDS文件举行快速定位的丈量
- 提供摇杆、专用控制键盘举行平台定位以及常用功效的快捷操作
